場發(fā)射掃描電子顯微鏡技術(shù)參數(shù)：

　　放大倍數(shù)：30倍-80萬倍

　　加速電壓：0.5-30kKV

　　點分辨率：1.0nm (15 kV)； 1.4nm(1 kV, WD = 1.5mm, 減速模式)

　　信號選擇：二次電子模式和背散射模

　　樣品臺最大直徑：50mm

　　傾轉(zhuǎn)角：T: -5-70°,R:360°

　　X射線能譜儀元素分析范圍：B5～U92

　　X射線能譜儀能量分辨率：130 eV

　　應(yīng)用范圍：

　　SU8020是日立SU8000系列超高分辨率場發(fā)射掃描電鏡，擁有卓越的高分辨性能、先進的探測技術(shù)和友好的用戶界面，使它能夠精確和清楚地捕捉最短暫的瞬間。 儀器采用了新型ExB式探測器和電子束減速功能，提高了圖像質(zhì)量，尤其是將低加速電壓下的圖像質(zhì)量提高到了新的水平；其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm，并且在探測器設(shè)計上有新的突破，配置了Lower、Up-per和Top三個Everhart-Thornley型探測器，可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多種信號，實現(xiàn)微區(qū)的形貌襯度、原子序數(shù)襯度、結(jié)晶襯度和電位襯度的觀測；還選配的STEM探測器，還可以實現(xiàn)明場像和暗場像的觀測，同時配備有高性能的HORIBA EX-350，可同時進行微區(qū)、亞微區(qū)成分定性和定量以及元素分布分析。

　　形貌分析：

　　通過形貌分析可獲得樣品的形貌、粒徑、分散性等相關(guān)信息，同時還可通過專用的背散射探頭對金屬、陶瓷樣品的質(zhì)厚襯度像進行進一步的表征，可用于納米材料、金屬材料、薄膜材料、半導體材料、陶瓷材料、生物組織形貌像的觀 察，同時還可對材料斷口和失效模式進行分析。

　　成分分析：

　　微區(qū)成分分析，通過對樣品微區(qū)、亞微區(qū)成分進行分析定性、定量分析，可確定樣品的組成。可選擇性的對樣品進行能譜點測、能譜線掃、能譜面分布分析，獲得樣品中的元素在一個點、一條線、一個面上的分布情況。