EBSD的發(fā)展大致經(jīng)歷了以下五個(gè)階段：

第一階段是20世紀(jì)70年代，Venables等在掃描電鏡下觀察到背散射電子衍射菊池帶，即所謂的高腳菊池帶。這個(gè)發(fā)現(xiàn)開(kāi)創(chuàng)了新的取向結(jié)構(gòu)分析技術(shù)，當(dāng)時(shí)沒(méi)有人能準(zhǔn)確預(yù)測(cè)它能發(fā)展到什么程度。

第二階段是20世紀(jì)80~90年代，Dingley及Hjelen等人在英國(guó)和挪威開(kāi)發(fā)出能用計(jì)算機(jī)標(biāo)定取向的EBSD設(shè)備，并成功將EBSD技術(shù)商品化。

第三階段是20世紀(jì)90年代初在人工手動(dòng)確定菊池帶的基礎(chǔ)上，人們先后成功研究出自動(dòng)計(jì)算取向、有效圖像處理以及自動(dòng)逐點(diǎn)掃描技術(shù)來(lái)確定菊池帶位置和類(lèi)型。

第四階段是90年代后期，能譜分析與EBSD分析的有效結(jié)合集成化，使相鑒定更加有效和準(zhǔn)確。

第五階段是原位分析技術(shù)，指SEM中的原位加熱、原位加力、FIB原位切割從而進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)3D-OIM。

在掃描電子顯微鏡（SEM）中，入射于樣品上的電子束與樣品作用，將會(huì)在每一個(gè)晶體或晶粒內(nèi)規(guī)則排列的晶格面上產(chǎn)生衍射。從所有原子面上產(chǎn)生的衍射組成“衍射花樣”，這可被看成是一張晶體中原子面間的角度關(guān)系圖。衍射花樣包含晶系（立方、六方等）對(duì)稱(chēng)性的信息，而且，晶面和晶帶軸間的夾角與晶系種類(lèi)和晶體的晶格參數(shù)相對(duì)應(yīng)，這些數(shù)據(jù)可用于EBSD相鑒定、取向分析等。

EBSD技術(shù)是基于掃描電子顯微鏡（SEM）中電子束在傾斜（一般為70°）樣品表面上激發(fā)出近似相干的背散射電子，被探頭收集并形成衍射菊池花樣，從而分析確定晶體結(jié)構(gòu)、取向及相關(guān)信息的方法，在材料科學(xué)研究中獲得了非常廣泛的應(yīng)用

EBSD相關(guān)基礎(chǔ)知識(shí)：

標(biāo)定率：計(jì)算機(jī)準(zhǔn)確標(biāo)定出的菊池花樣點(diǎn)數(shù)占總采集點(diǎn)數(shù)的比值。

EBSD物相的鑒定需要計(jì)算機(jī)采集的物相信息（菊池花樣）與數(shù)據(jù)庫(kù)作比對(duì)。若一致，即可標(biāo)定；若不一致，則無(wú)法標(biāo)定，即無(wú)法準(zhǔn)確判斷是什么物質(zhì)。所以只有提供準(zhǔn)確的物相信息，才能做準(zhǔn)確的EBSD測(cè)試。

EBSD質(zhì)量主要取決于標(biāo)定率，而標(biāo)定率影響因素主要有三個(gè)：1.晶粒完整性2.樣品內(nèi)應(yīng)力3.制樣水平 若樣品本身同時(shí)存在晶體和非晶，或樣品變形程度很大，抑或拋光質(zhì)量不好，都將導(dǎo)致標(biāo)定率偏低。另外，部分樣品自身是順磁性（如Fe、Co、Ni等）或者磁性（NdFeB等），會(huì)與SEM的磁線圈相互作用而導(dǎo)致實(shí)驗(yàn)過(guò)程中SEM的像散發(fā)生動(dòng)態(tài)變化，從而惡化EBSD的實(shí)驗(yàn)效果。

• 提供準(zhǔn)確物相PDF信息，若無(wú)具體PDF卡片，可先做XRD分析；

• 相同或相似的物相只能選擇其中一種進(jìn)行標(biāo)定；

• 變形量大的樣品，先做去應(yīng)力處理，例如去應(yīng)力退火；

• 磁性樣品需進(jìn)行消磁處理；

• 樣品待測(cè)試面及其背面應(yīng)該相互平行，試樣不宜過(guò)厚；

• 可先做金相看大概形貌，再做EBSD。

注：以上情況均可能導(dǎo)致實(shí)驗(yàn)結(jié)果與預(yù)期不符。

由于樣品需要制樣及實(shí)驗(yàn)時(shí)需粘在傾斜樣品臺(tái)上，所以樣品尺寸要盡可能的小，從而避免實(shí)驗(yàn)過(guò)程中樣品由于自身重力而引起的機(jī)械漂移。為此，中科百測(cè)綜合考慮以上因素，制定了EBSD樣品遵循的標(biāo)準(zhǔn)如下：

樣品描述：

a）長(zhǎng)寬高最好不超過(guò)8mm*8mm*8mm；

b）樣品待測(cè)試面及其背面應(yīng)該相互平行；

c）待測(cè)試面應(yīng)該采用砂紙研磨至2000#；

d）樣品應(yīng)該干凈無(wú)殘留污染物。

EBSD測(cè)試過(guò)程中是逐點(diǎn)掃描的，其主要實(shí)驗(yàn)參數(shù)包括：

（1）物相信息（PDF卡片）（2）放大倍數(shù)（3）測(cè)試面積 （4）掃描步長(zhǎng)（5）標(biāo)定率。

這幾點(diǎn)綜合決定了掃描時(shí)間。一般情況下樣品制備完成后，其標(biāo)定率也即確定了。標(biāo)定率越高，物相信息越準(zhǔn)確，相同測(cè)試面積相同步長(zhǎng)下情況下，掃描時(shí)間就越短。測(cè)試面積和步長(zhǎng)的選擇一般遵循以下原則：

• 對(duì)于表征重點(diǎn)是晶粒尺寸或織構(gòu)的情形，測(cè)試面積要足夠大，以包括1000個(gè)以上晶粒為宜，步長(zhǎng)為平均晶粒尺寸的三分之一；

• 對(duì)于表征重點(diǎn)是變形亞結(jié)構(gòu)、界面特征的情形，EBSD步長(zhǎng)應(yīng)盡可能小，為特征尺寸的十分之一為宜；

• 對(duì)于獲取滿(mǎn)足文章發(fā)表要求的情形，EBSD應(yīng)采取粗掃+細(xì)掃組合，粗掃獲得大面積整體的特征，小步長(zhǎng)（最小特征尺寸的五分之一到十分之一）細(xì)掃獲得小面積的精細(xì)的結(jié)構(gòu)、取向信息；

• 對(duì)于其他常規(guī)情形，步長(zhǎng)建議為平均晶粒尺寸的五分之一。