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百測(cè)網(wǎng)-透射電鏡TEM測(cè)試介紹

透射電鏡.png                

一、透射電子顯微鏡發(fā)展簡(jiǎn)史            

1924年,德國(guó)科學(xué)家德布羅意(De Broglie)指出,任何一種接近光速運(yùn)動(dòng)的粒子都具有波動(dòng)本質(zhì)。1926-1927年,Davisson和Germer以及Thompson Reid用電子衍射現(xiàn)象驗(yàn)證了電子的波動(dòng)性,發(fā)現(xiàn)電子波長(zhǎng)比X光還要短,從而聯(lián)想到可用電子射線代替可見光照明樣品來制作電子顯微鏡,以克服光波長(zhǎng)在分辨率上的局限性。1926年德國(guó)學(xué)者Busch指出“具有軸對(duì)稱的磁場(chǎng)對(duì)電子束起著透鏡的作用,有可能使電子束聚焦成像”,為電子顯微鏡的制作提供了理論依據(jù)。

1931年,德國(guó)學(xué)者諾爾(Knoll)和魯斯卡(Ruska)獲得了放大12-17倍的電子光學(xué)系統(tǒng)中的光闌的像,證明可用電子束和電磁透鏡得到電子像,但是這一裝置還不是真正的電子顯微鏡,因?yàn)樗鼪]有樣品臺(tái)。1931-1933年間,魯斯卡等對(duì)以上裝置進(jìn)行了改進(jìn),做出了世界上第一臺(tái)透射電子顯微鏡(簡(jiǎn)稱透射電鏡)。1934年,電子顯微鏡的分辨率已達(dá)到500?,魯斯卡也因此獲得了1986年的諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)。

隨后,德國(guó)、英國(guó)、荷蘭等也都相繼研制出了自己的透射電子顯微鏡。我國(guó)的透射電子顯微鏡的研制始于20世紀(jì)50年代,1977年已做出了分辨率為3?的80萬倍的透射電鏡。

目前世界上生產(chǎn)透射電鏡的主要是這三家電鏡制造商:日本的日本電子 (JEOL)和日立(Hitachi)以及美國(guó)的FEI。它們生產(chǎn)的透射電鏡大致可分為三類。

(1)常規(guī)的TEM:加速電壓為100-200kV。代表性產(chǎn)品有日本電子的JEM-2010,日立的H-8000,FEI的TECNA120,200 kV透射電鏡的分辨率可達(dá)1.9?。

(2)中壓TEM:加速電壓為300-400 kV。代表性產(chǎn)品有日本電子的JEM3010,JEM-4000,日立的H-9000, FEI的TECNAI F30, 300 kV透射電鏡的分辨率可達(dá)1.7?,400 kV透射電鏡的分辨率可達(dá)1.63? 。

(3)高壓TEM:加速電壓為1000 kV,代表性產(chǎn)品有JEM-1000,日立公司還制造了世界上最大的3000kV的透射電鏡。目前1000 kV的透射電鏡最高分辨率可達(dá)1?。

目前用得最多的透射電鏡是200 kV和300 kV的電鏡,高壓電鏡由于價(jià)格昂貴,體積龐大,用得很少。

在透射電子顯微鏡不斷進(jìn)步的同時(shí),用于其觀察的樣品的制樣方法也是在不斷發(fā)展。由開始的復(fù)型方法,到1949年做出的第一個(gè)能讓電子束穿過的薄金屬樣品,再到現(xiàn)在基本完全實(shí)現(xiàn)用透射電鏡直接觀察試樣的時(shí)代。歷經(jīng)了這三個(gè)階段。

20世紀(jì)70年代,考利(John Cowley)和穆迪(Alex Moodie)建立了高分辨電子顯微像的理論與技術(shù),發(fā)展了高分辨電子顯微學(xué)。20世紀(jì)80年代,發(fā)展了高空間分辨分析電子顯微學(xué),將電子顯微分析技術(shù)在材料學(xué)中的研究大大地拓展了。20世紀(jì)90年代,由于納米科技的飛速發(fā)展,對(duì)電子顯微分析技術(shù)的要求越來越高,進(jìn)一步推動(dòng)了電子顯微學(xué)的發(fā)展。目前,透射電鏡已發(fā)展到了球差校正透射電鏡的階段。

二、透射電子顯微鏡基本原理

把經(jīng)加速和聚集的電子束投射到非常薄的樣品上,電子與樣品中的原子碰撞而改變方向,從而產(chǎn)生立體角散射。散射角的大小與樣品的密度、厚度相關(guān),因此可以形成明暗不同的影像,影像將在放大、聚焦后在成像器件(如熒光屏、膠片、以及感光耦合組件)上顯示出來。這就是透射電鏡成像的基本原理。其實(shí),電子顯微鏡與光學(xué)顯微鏡的成像原理基本一樣,所不同的是前者用電子束作光源,用電磁場(chǎng)作透鏡。

三、透射電子顯微鏡基本結(jié)構(gòu)

電子顯微鏡一般分為下面幾個(gè)部分:

1、 照明系統(tǒng)(電子槍、高壓發(fā)生器和加速管、照明透鏡系統(tǒng)和偏轉(zhuǎn)系統(tǒng));

2、 成像系統(tǒng)(物鏡、中間鏡、投影鏡、光闌);

3、 觀察和照相系統(tǒng);

4、 試樣臺(tái)和試樣架;

5、 真空系統(tǒng)。

基本結(jié)構(gòu)見圖1。其中成像系統(tǒng)是電子光學(xué)部分中最核心的部分。

透射電子顯微鏡主體的剖面圖.png

圖1 透射電子顯微鏡主體的剖面圖

電子槍:電子槍是產(chǎn)生電子的裝置,它位于透射電鏡的最上部,電子槍的種類不同,電子束的會(huì)聚直徑、能量的發(fā)散度也不同。這些參數(shù)在很大程度上決定了照射到試樣上的電子的性質(zhì)。電子槍可分為熱電子發(fā)射型和場(chǎng)發(fā)射型兩種類型。

照明系統(tǒng)和偏轉(zhuǎn)系統(tǒng):將加速管加速的電子會(huì)聚并照射到試樣上的一組透鏡稱為照明透鏡系統(tǒng)。它的功能是把有效光源會(huì)聚到樣品上,并且控制該處的照明孔徑角、電流密度(照明亮度)和光斑尺寸。偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)是在聚光鏡系統(tǒng)中裝有使電子偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)線圈。

成像系統(tǒng):成像系統(tǒng)一般由物鏡、中間鏡、投影鏡、物鏡光闌和選區(qū)衍射光闌組成。其中物鏡是最重要的,因?yàn)榉直媛手饕晌镧R決定。

像的觀察與記錄系統(tǒng):在投影鏡之下是像的觀察與記錄系統(tǒng)。像的觀察是通過熒光屏進(jìn)行的,而像的記錄可采用多種方法,如照相底片、電視攝像機(jī)、成像板、慢掃描CCD照相機(jī)。


Talos F200X.png                

Talos F200X簡(jiǎn)介

FEI Talos F200X 透射電子顯微鏡是一個(gè)真正多功能、多用戶環(huán)境的200kV場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡。其點(diǎn)分辨率0.25nm,信息分辨率0.12nm,STEM分辨率0.16nm,放大倍率25-1100000X樣品傾斜角度X/Y為±30°。

該儀器配備了STEM、EDX、HAADF、CCD等附件,能采集明場(chǎng)像BF、暗場(chǎng)像DF和高腳環(huán)形暗場(chǎng)像HADDF,能進(jìn)行選區(qū)電子衍射SAED和會(huì)聚束衍射CBED,能進(jìn)行EDX能譜分析和高分辨STEM原子序數(shù)像的分析,STEM結(jié)合EDX點(diǎn)、線、面掃描可以進(jìn)行微區(qū)能譜分析。該儀器還配備了相關(guān)的制樣設(shè)備,包括LEICA EM RES102離子減薄儀、磁力雙噴電解減薄器和凹坑儀等,可以進(jìn)行金屬、生物以及高分子材料等樣品的透射電子顯微鏡的制樣工作。該儀器可廣泛應(yīng)用于高分子材料、陶瓷、納米材料、生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、化學(xué)、物理學(xué)、地質(zhì)學(xué)、金屬、半導(dǎo)體材料等領(lǐng)域的科研,是研究各種材料的超顯微結(jié)構(gòu)與性能關(guān)系所不可缺少的大型精密儀器。

利用它可進(jìn)行:

(1)形貌分析,它可獲得非晶材料的質(zhì)厚襯度像,多晶材料的衍射襯度像和單晶薄膜的相位襯度像(原子像),通過形貌分析可獲得樣品的形貌、粒徑、分散性等相關(guān)信息,同時(shí)還可通過明場(chǎng)像、暗場(chǎng)像對(duì)樣品進(jìn)行進(jìn)一步的表征;

(2)結(jié)構(gòu)分析,觀察研究材料結(jié)構(gòu)并對(duì)樣品進(jìn)行納米尺度的微分析,如:高分辨晶格條紋像,選取電子衍射,會(huì)聚束電子衍射,Z-襯度(原子序數(shù))成像等。

(3)成分分析:小到幾個(gè)納米尺度的微區(qū)或晶粒的成分分析,可對(duì)樣品進(jìn)行能譜點(diǎn) 測(cè)、能譜線掃、能譜面掃,獲得樣品中的元素在一個(gè)點(diǎn)、一條線、一個(gè)面上的分布情況。

送樣要求:粉末樣品≥2mg(樣品干燥) 液體樣品≥0.5ml 塊體樣品:無嚴(yán)格尺寸要求。

Talos F200X實(shí)驗(yàn)案例

納米材料

金屬材料

截面樣品

明暗場(chǎng)像

電子衍射

能譜線掃

能譜線掃

能譜面分布



透射電鏡測(cè)試的常見問題

1.測(cè)試結(jié)果不是我想要的,和我的預(yù)期不一致。

解決方案是:相互理解并做好測(cè)試前后充分溝通。

微觀形貌拍攝存在未知性,樣品在未拍攝前,任何人也無法百分之百確定樣品是什么樣子,科研本身就是在探索,首先不要全部否定為您出具的結(jié)果,除非您有一模一樣的樣品用相同的制樣方法已經(jīng)拍攝過的透射圖片。排除將樣品編號(hào)弄錯(cuò)這類情況之外,我們拍攝的任何一張圖片都是您樣品客觀情況,這一點(diǎn)需要達(dá)成共識(shí)。不過我們也理解大家有著明確的預(yù)期目標(biāo),那測(cè)試之前的溝通非常重要。

同時(shí),因?yàn)橥干潆婄R拍攝的本身特點(diǎn),再加之工程師工作時(shí)不可能時(shí)時(shí)與您溝通,所以為保證給您以最快速度提供符合您預(yù)期的數(shù)據(jù)。因此參考圖片以及詳盡的委托協(xié)議書也是必不可少的:

?測(cè)試目的:例主要是做粒徑統(tǒng)計(jì)或觀察核殼結(jié)構(gòu)等等

?樣品成分:具體有哪幾種物相,以及其可能形貌、結(jié)合方式等。例樣品是球狀MoS2微米球邊緣連接著ZnO納米線,而ZnS納米顆粒又附著在納米線上。

?具體拍攝要求:多拍高倍圖或需要多拍低倍圖片,以及特殊要求(周期,視頻觀看,需要原始數(shù)據(jù)等)。

工程師在測(cè)試時(shí)一切以委托協(xié)議內(nèi)容為準(zhǔn),如果因委托協(xié)議內(nèi)容錯(cuò)誤或不明確導(dǎo)致拍攝數(shù)據(jù)無法使用,責(zé)任不屬于測(cè)試方,需要正常計(jì)費(fèi)。當(dāng)然,我們?cè)诳次袇f(xié)議時(shí),如果有必要聯(lián)系,還是盡可能會(huì)與您溝通。如果您對(duì)測(cè)試有什么疑問,不管是測(cè)試前,測(cè)試中,測(cè)試后,我們都熱烈歡迎您和我們進(jìn)行更深入的有效的溝通。但為雙方考慮,還是希望您能提供盡可能詳細(xì)的委托單,節(jié)省彼此時(shí)間與精力。

2. 我的樣品你們給分散的不好?

納米材料容易團(tuán)聚是由于納米材料本身尺寸原因產(chǎn)生的特性,是做功能性材料遇到的常見問題,其根本方法是在樣品實(shí)驗(yàn)室制備過程中通過調(diào)整參數(shù)進(jìn)行解決的。不同樣品可能分散性會(huì)有所不同,但工程師會(huì)根據(jù)其豐富的經(jīng)驗(yàn)將樣品分散到最佳狀態(tài)來進(jìn)行制樣和測(cè)試。但無法保證每個(gè)樣品都能達(dá)到使客戶百分之百滿意的狀態(tài)。所以請(qǐng)盡可能在委托協(xié)議里寫明分散溶劑和具體超聲時(shí)間。如果客戶對(duì)分散性要求特別高,建議自己制樣,畢竟自己的樣品自己最了解。否則請(qǐng)接受工程師的測(cè)試結(jié)果。

3. 我的TEM結(jié)果怎么和XRD(或SEM)結(jié)果對(duì)不上呢?

建議您提前告知XRD或者掃描的結(jié)果案例圖片,告知是一樣的樣品或者類似樣品已經(jīng)拍攝過的掃描或者XRD,并提示通過以前工作已表明什么結(jié)構(gòu)信息,我們?cè)跍y(cè)試中會(huì)盡量找吻合的透射區(qū)域。如果找不到,現(xiàn)場(chǎng)會(huì)和您聯(lián)系或者當(dāng)時(shí)取消測(cè)試。另外,微觀樣品的不均勻性,不可控性,樣品透射測(cè)試和之前的結(jié)果和相類似的實(shí)驗(yàn)結(jié)果出現(xiàn)不一致的情況也是時(shí)有發(fā)生,只能是提前告知,提前避免。如果測(cè)試后發(fā)現(xiàn),只能進(jìn)行補(bǔ)拍。

4. 我不知道這個(gè)測(cè)試能得到哪些信息?

項(xiàng)目

得到信息

形貌像

樣品基本形態(tài)、分散性、大小等

高分辨像

晶格信息,界面結(jié)合情況等

明暗場(chǎng)像

突現(xiàn)特定信息

能譜點(diǎn)測(cè)

點(diǎn)的成分分析

能譜線掃

沿特定方向上元素含量的變化情況

能譜面分布

元素含量在某一區(qū)域上的分布及變化情況

電子衍射

結(jié)構(gòu)信息,判斷是晶體或非晶等

5. 我只是做個(gè)能譜,要提供什么信息呢?

因?yàn)闃悠窙]有百分之百純凈的,各種各樣的原因總會(huì)存在一定雜質(zhì),所以做能譜時(shí)需要明確提供樣品所含元素以及需要輸出哪些具體元素。

另外,一般粉末樣品或液體樣品都會(huì)使用常規(guī)銅載網(wǎng)(含有C、Cu元素)制樣。如果只是定性分析,含有Cu或C的樣品用常規(guī)銅載網(wǎng)是沒有問題的。如果需要特別精確的定量分析,則必須選用特殊載網(wǎng)。(1) 消除Cu元素影響:采用鉬網(wǎng)或金網(wǎng);(2)消除C元素影響:SiN膜,因?yàn)闊o論銅網(wǎng)、鉬網(wǎng)、金網(wǎng)都含有碳膜,及含有C元素。

6. 你們的儀器型號(hào)、加速電壓、相機(jī)常數(shù)、電子波長(zhǎng)λ、分辨率分別是多少?

儀器型號(hào)

FEI Talos F200X

加速電壓

200KV

相機(jī)常數(shù)

520mm

電子波長(zhǎng)

  1. 0.0251 ?

分辨率

TEM點(diǎn)分辨率

  1. 0.25nm

TEM信息分辨率

  1. 0.12nm

STEM分辨率

  1. 0.16nm

7. 電子衍射為什么有的加探針,有的不加?

做電子衍射的儀器都是有探針的。探針有兩方面作用:一是防止燒壞CCD;二是防止中心斑點(diǎn)太亮,影響周圍衍射斑點(diǎn)襯度。一般情況下非晶衍射斑點(diǎn)都會(huì)加上探針,而單晶衍射斑點(diǎn)都不加。

8. 麻煩給我輸出一下DM3文件。

15年之后的絕大部分電鏡都無法輸出DM3文件,只能輸出tif格式文件。但tif格式仍然可用DM(Digital Micrograph)軟件處理,具體處理方法可下載dm3問題處理。

9. 我的樣品特殊,別人都告訴我做不了,我該怎么辦?

我們除了毒性,腐蝕性,放射性樣品,易變質(zhì)樣品不做,氣體樣品做不了透射,其他所有樣品(比如木材的,病毒的,橡膠的,金屬的等,尺寸超大的,尺寸超小的,磁性的,含有黑鱗的)只要您想做,我們都能做。

中科百測(cè)-百測(cè)網(wǎng)場(chǎng)發(fā)射透射電鏡收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)


類別

材料分類及項(xiàng)目

收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)

備注

 

 

 

 

 

 

 

 

TEM

制樣

 

 

 

 

幾何尺寸

長(zhǎng)(L,mm

寬(W, mm

厚(H,um

 

 

 

幾何尺寸收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)是指提供的塊體樣品的尺寸不滿足默認(rèn)尺寸要求而產(chǎn)生的額外費(fèi)用,默認(rèn)塊體樣品尺寸標(biāo)準(zhǔn): 長(zhǎng)寬≥3mm,厚度≤100um。

3

3

100

0

3

3

200H100

200 元/樣

3

3

H200

500 元/樣

3

3W2

100

100 元/樣

3

2W1

100

200 元/樣

3

1W0.5

100

500 元/樣

3

0.5W0.2

100

800 元/樣

3L2

3W2

0.06

200 元/樣

2L1

2W1

0.06

400 元/樣

1L0.5

1W0.5

0.06

1000 元/樣

 

 

平面制樣

韌性材料

500 元/樣

如Al、Cu、Fe、Co、Ni 和   Ti 等金屬

粉末冶金制備的韌性材料

700 元/樣

通過制粉-燒結(jié)方式制備的高溫合金,

Ti 合金等,樣品中存在微孔,疏松等。

粉末冶金制備的脆性材料、金屬間化合物、非晶和陶

瓷等脆性材料、易氧化材料等

900 元/樣

NdFeBTiAl、Ni3Al、BaTiO3、Mg

及其合金等。

超硬脆性材料

1500 元/樣

Al2O3,   MgO,   SiO2, SiC, Si3N4 等硬度

≥SiC 高的樣品。

截面制樣

硅基體薄膜材料

1200 元/樣

非硅基體薄膜材料

2500 元/樣

包括 MgO, SrTiO3,SiO2,Al2O3

金屬基體鍍(涂)層材料

3000 元/樣

特殊制樣

定點(diǎn)制備薄區(qū)

2500 元/樣

如焊接樣品的焊縫、絕熱剪切帶等

FIB 制樣

5000 元/樣

特殊樣品 FIB 制樣價(jià)格需具體咨詢

粉末

制樣

碳膜制樣

50 元/樣

可提供超薄、微柵、普通碳膜、雙聯(lián)

載網(wǎng)、GIG 等各種碳膜制樣服務(wù)。

 

 

 

 

TEM

測(cè)試

 

形貌像

粉末樣品

300 元/樣

1. 量子點(diǎn)形貌像 350/樣。

2. 公司可提供遠(yuǎn)程視頻觀察拍攝按時(shí)間計(jì)費(fèi)。

3. 公司可提供球差矯正場(chǎng)發(fā)射透射電鏡測(cè)試,價(jià)格、周期需聯(lián)系客服人員

咨詢。

磁性粉末樣品

700 元/樣

塊狀樣品

400 元/樣

磁性塊體樣品

600 元/樣

磁性塊體脆性樣品

1000 /

 

其它

晶格條紋像

150 元/樣

晶格條紋像、選區(qū)電子衍射、明暗場(chǎng)像的收費(fèi)價(jià)格為附加測(cè)試的價(jià)格,如單獨(dú)測(cè)試需外加 200 元基礎(chǔ)費(fèi)用。

選區(qū)電子衍射

150 元/樣

明暗場(chǎng)像

100 元/樣

 

能譜

能譜點(diǎn)測(cè)

150 元/樣

能譜線掃

500 元/樣

能譜面掃

700 元/樣

現(xiàn)場(chǎng)

預(yù)約

普通樣品

800 /h

磁性粉末樣品暫不提供現(xiàn)場(chǎng)預(yù)約服務(wù)

磁性塊狀樣品

1000 /h

送樣

要求

粉末樣品2mg(樣品干燥)      液體樣品≥0.5ml      塊體樣品:無嚴(yán)格尺寸要求



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